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閃爍體的光譜、 壽命、成像、光產(chǎn)額測量:在自校準(zhǔn)溫度傳感與X射線探測領(lǐng)域取得重要進(jìn)展
更新時(shí)間:2025-02-26瀏覽:169次

近日,澳門科技大學(xué)材料科學(xué)與工程研究院李良教授團(tuán)隊(duì)與哈爾濱工程大學(xué)任晶教授團(tuán)隊(duì)在自校準(zhǔn)溫度傳感與X射線探測領(lǐng)域取得重要進(jìn)展。研究成果以“Dual-purpose CsPbBr3 and Eu3+ codoped glass for self-calibrated temperature sensing and X-rays detection"為題發(fā)表在國際知*期刊《Ceramics International》上。澳門科技大學(xué)為該論文第一單位,李良教授/任晶教授為共同通訊作者。今天小卓為大家分享該研究成果,希望對您的科學(xué)研究或工業(yè)應(yīng)用帶來一些靈感和啟發(fā)。

應(yīng)用方向:鈣鈦礦玻璃、溫度傳感、X射線探測、非接觸式測量

閃爍體的光譜、 壽命、成像、光產(chǎn)額測量:在自校準(zhǔn)溫度傳感與X射線探測領(lǐng)域取得重要進(jìn)展

正文:

在X射線成像應(yīng)用中,能夠同時(shí)自校準(zhǔn)溫度和輻射劑量的閃爍體材料具有重要意義,尤其是在條件多變的環(huán)境中。傳統(tǒng)測量方法往往依賴于單一波段發(fā)射強(qiáng)度的變化,需要額外的校準(zhǔn)程序來保證測量精度。而采用熒光強(qiáng)度比(FIR)的傳感器可以有效應(yīng)對環(huán)境因素導(dǎo)致的光強(qiáng)變化,為非接觸式測量提供了一種可靠方案。

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圖1. CsPbBr3/Eu3+共摻雜樣品的溫度依賴性(a) PL和(c) XEL光譜以及(b) PL和(d) XEL對應(yīng)的熒光強(qiáng)度比FIR(ICsPbBr3/IEu3+)指數(shù)擬合圖。

近日,李良教授/任晶教授團(tuán)隊(duì)設(shè)計(jì)了一種新型的CsPbBr3納米顆粒(NPs)和稀土離子Eu3+共摻雜的玻璃材料,用于溫度傳感和X射線劑量檢測。該材料利用CsPbBr3和Eu3+的非熱耦合綠光和紅光發(fā)射的熒光強(qiáng)度比作為自校準(zhǔn)指標(biāo),實(shí)現(xiàn)了對溫度和X射線劑量的雙重自校準(zhǔn)。

研究團(tuán)隊(duì)通過對比CsPbBr3或Eu3+單獨(dú)摻雜和共摻雜玻璃的光致發(fā)光(PL)與X射線激發(fā)發(fā)光(XEL)特性,揭示了CsPbBr3和Eu3+之間的能量轉(zhuǎn)移現(xiàn)象。實(shí)驗(yàn)表明,CsPbBr3的發(fā)光強(qiáng)度隨溫度升高顯著降低,而Eu3+的發(fā)光強(qiáng)度受溫度影響較小,二者均表現(xiàn)出熱激活過程的特征。此外,Eu3+對X射線的響應(yīng)更為顯著,其XEL強(qiáng)度隨劑量率的增加呈現(xiàn)出更高的增長速率。

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2.CsPbBr3/Eu3+共摻雜玻璃的XEL機(jī)理示意圖

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3.(a) CsPbBr3/Eu3+共摻雜樣品的X射線劑量率相關(guān)XEL譜;(b)雙波段輻射強(qiáng)度隨劑量率的變化。

團(tuán)隊(duì)進(jìn)一步研究了CsPbBr3和Eu3+的非熱耦合雙峰發(fā)射的FIR與溫度和X射線劑量率的關(guān)系。結(jié)果表明,F(xiàn)IR與溫度呈指數(shù)關(guān)系,而與X射線劑量率呈三次多項(xiàng)式關(guān)系。這一發(fā)現(xiàn)首*展示了利用CsPbBr3和稀土離子的FIR實(shí)現(xiàn)X射線劑量自校準(zhǔn)的可能性。

該研究不僅為非接觸式溫度和輻射劑量測量提供了新的思路,還為開發(fā)高性能閃爍體材料奠定了基礎(chǔ),有望在高溫多色X射線成像等領(lǐng)域得到應(yīng)用。

配置推薦:

文中CsPbBr3和Eu3+共摻雜玻璃的X射線激發(fā)發(fā)光(XEL)測試,采用的是閃爍體性能測試系統(tǒng),配備X射線管。該設(shè)備組合可用于研究新型閃爍體材料的發(fā)光特性。

下圖為李良教授/任晶教授團(tuán)隊(duì)使用的熒光光譜儀及相關(guān)設(shè)備,主要用于新型光電材料與器件的研究。

閃爍體的光譜、 壽命、成像、光產(chǎn)額測量:在自校準(zhǔn)溫度傳感與X射線探測領(lǐng)域取得重要進(jìn)展閃爍體的光譜、 壽命、成像、光產(chǎn)額測量:在自校準(zhǔn)溫度傳感與X射線探測領(lǐng)域取得重要進(jìn)展

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